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10.12141/j.issn.1000-565X.190071

熔融盐法制备CuCl2-石墨层间化合物及形成机理

引用
通过熔融盐法制备CuCl2 插层的石墨层间化合物(CuCl2-GICs),探讨了加热时间、反应物配比对CuCl2-GIC产物的阶结构、表面形貌及导电性的影响.结果表明,产物含有主阶为1 阶的混阶石墨层间化合物和一定量的石墨;延长反应时间有助于增强插层效果;反应物配比对产物的阶结构组成影响较小.插层后的石墨发生了膨胀,在片层的边缘分布着较多的CuCl2 颗粒;制备的CuCl2-GICs中CuCl2 为非化学计量比,其中[Cl-]离子不足.CuCl2-GICs的电导率较石墨原料有所提升,最大提升80%.

石墨层间化合物、天然鳞片石墨、氯化铜、激光拉曼、导电性

47

TB33(工程材料学)

广东省自然科学基金资助项目;广东省科技计划项目;广州市科技计划项目

2020-03-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共7页

99-105

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华南理工大学学报(自然科学版)

1000-565X

44-1251/T

47

2019,47(12)

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