曲面抛光的材料去除模型与摆线轨迹控制

摘要：

基于柔性盘抛光的材料去除模型,提出了沿摆线轨迹的曲面抛光参数控制方法.首先确定柔性盘与表面的接触状态,采用支持向量机方法建立下压力预测模型,确定接触区的压力分布规律,并依据Preston方程建立材料去除模型,进而依据摆线半径和步距的相对关系,将摆线分为单周期内存在2个交叠区与3个交叠区两种情况,在去除模型基础上将单道摆线分为两部分单独叠加,再根据交叠区宽度作总叠加,控制摆线轨迹参数实现最优去除率分布效果.去除率仿真实验和工业机器人抛光实验结果表明,精抛后工件表面粗糙度达0.57μm,说明提出的摆线轨迹参数控制方法适用于高精度曲面抛光.

关键词：曲面抛光、材料去除、摆线轨迹、参数控制

所属期刊栏目：46

分类号：TH161

资助基金：广东省科技计划项目2014B090919001,2015B090922010

在线出版日期：2018-11-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：8-15