基于卷对卷矩形靶的溅射膜厚均匀性控制

摘要：

提出一种基于卷对卷矩形靶的溅射理论模型,借助Matlab模拟仿真软件,对卷绕柔性衬底(宽度为100mm,弯曲半径为100 mm,弯曲角为80°)的膜厚均匀性进行分析.首先,在主辊静态条件下,改变靶材几何尺寸和靶基距,研究此时膜厚均匀性误差的分布情况,发现:膜厚均匀性误差随着靶材几何尺寸的变大而整体减小;随着靶基距的增大,均匀性误差的中部先增大后减小,而两边一直减小.其次,在主辊动态条件下,固定靶材几何尺寸,仅改变靶基距,研究此时膜厚均匀性误差的分布规律,发现:随着靶基距的增大,膜厚均匀性误差先增大后减小.仿真实验结果还表明,动态膜厚均匀性误差位于静态膜厚均匀性误差分布曲线Max-Min的中部极值点与该分布曲线上参考点均值之间.通过对文中模型的仿真,可以较快地预测基于卷对卷矩形靶的动态膜厚均匀性误差范围,大大减少膜厚均匀性的实验调试次数.

关键词：矩形靶、卷对卷、真空磁控溅射、膜厚均匀性、仿真

所属期刊栏目：43

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

资助基金：广东省战略性新兴产业核心技术攻关项目2012A032300009;华南理工大学中央高校基本科研业务费专项资金资助项目2014ZM0025Supported by the Strategic Emerging Industry Core Technology Research Project of Guangdong Province2012A032300009

在线出版日期：2016-04-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：81-86