投射电容屏ITO电路检测用线阵CCD成像系统的设计

摘要：

为解决线阵CCD用于投射电容屏氧化铟锡(ITO)电路检测时不易获取高对比度图像的问题,根据明场照明反射成像原理,设计并构建了一套基于最大叠加反射系数差值的同轴照明与成像系统.根据投射电容屏ITO电路与玻璃基板的光学特性及ITO电路的几何特征,分析了光源照射及成像方式;根据ITO电路的多层复合结构,分析了影响ITO电路与玻璃基板成像对比度的影响因素;在满足较高生产率的运动速度下,通过对比不同光照亮度下所获取的系列图像,确定了可获得高对比度ITO电路与玻璃基板图像的成像系统工作参数.实验结果表明:检测精度为10 μm、ITO基板运动速度为130 mm/s且光照亮度等级为190时,所获图像的灰度直方图具有显著双峰值,易于识别ITO电路缺陷.

关键词：图像获取、线阵CCD、氧化铟锡电路、玻璃基板、图像对比度

所属期刊栏目：42

分类号：TH164;O439

资助基金：广东省工业高新技术攻关引导项目2013B010402003

在线出版日期：2015-05-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：19-24