铜氧化过程中其表面"非晶膜"的AES和HREM分析

摘要：

利用电子显微镜中的电子束对铜的薄膜样品进行了连续的照射和跟踪观察, 结果发现, Cu在氧化过程中首先出现的是一层非晶膜, 这层非晶膜在电子束的照射下转变成了Cu的晶体氧化物. AES和HREM分析结果表明, Cu表面出现的这层非晶膜, 它的主要成分为Cu和O, 在铜的氧化过程中起着一种氧化界面的作用. 也就是说, Cu的氧化要经历两个阶段, 首先是Cu与O结合形成非晶膜, 接着非晶膜在适当的时候转变为铜的晶态氧化物.

关键词：非晶膜、电子束、氧化

所属期刊栏目：28

分类号：TG14(金属学与热处理)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：55-60