248 nm Krf激光投影成像系统设计与参数分析

摘要：

对用于需要微米级线宽的平板显示器件,光电子与微电子产品等工业化生产中的激光投影成像(LPI)装置中的激光投影系统和激光照明系统的关键技术参数进行了分析.以248 nm KrF深紫外激光作为光源,在装置整体性能设计要求下,理论推导和分析了符合实际场景的关键技术参数,包括分辨率、焦深、激光光源、曝光时间.得到了相关的具有一定参考价值的结论.

关键词：激光投影成像、扫描曝光、焦深、分辨率

所属期刊栏目：26

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：广州市科技计划资助项目2006Z3-D0041

在线出版日期：2008-12-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1405-1408