厚度与纳米二氧化硅掺杂对义齿基托气孔率的影响

摘要：

目的:考察厚度与纳米SiO2掺杂对聚甲基丙烯酸甲酯义齿基托气孔率的影响.方法:采用两种材料聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和纳米二氧化硅/聚甲基丙烯酸甲酯复合材料(PMMA/SiO2)制备长65mm,宽40mm,厚度分别为3mm、5mm、7mm、9mm长方体树脂八组,每组8个,共64个.试件均经过打磨、抛光,干燥至恒重后记数,再放入37℃蒸馏水中浸泡至恒重记数.根据公式计算气孔率.结果:随着厚度的增加,两组材料气孔率均随之增加.在同厚度下,PMMA材料组与PMMA/SiO2复合材料组的气孔率差异无统计学意义(P>0.05).结论:厚度对义齿基托气孔率影响较大.添加SiO2纳米颗粒对义齿基托的气孔率没有明显的影响.

关键词：纳米二氧化硅、厚度、气孔率

所属期刊栏目：31

分类号：R783.6(口腔科学)

在线出版日期：2008-07-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：85-86