分焦平面像素偏振片阵列的制备研究

摘要：

分焦平面像素偏振片的单元大小为像素尺寸,能够集成到CMOS相机的像元表面,可以实现多方向同时偏振成像探测.利用电子束曝光和ICP反应离子束刻蚀相结合的工艺技术制备了不同周期和特征尺寸的分焦平面像素偏振片阵列,应用扫描电子显微镜实现了微纳线栅结构的表征.分焦平面偏振成像克服了偏振成像中不能同时成像、系统不稳定的缺陷,能够很好的适应多种复杂的探测环境.

关键词：分焦平面、像素偏振片、电子束曝光、反应离子束刻蚀

所属期刊栏目：8

分类号：TH74(仪器、仪表)

在线出版日期：2017-12-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：38-39