基于电磁铁励磁的圆孔磁流变抛光头研究
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3969/j.issn.1003-5451.2023.01.005

基于电磁铁励磁的圆孔磁流变抛光头研究

引用
根据圆孔光学元件的抛光特点,采用有限元仿真分析磁极头厚度、气隙宽度及铁芯宽度等因素对磁场强度的影响规律,设计优化了一种新型高效抛光头,获得磁场强度最大值为H=144520A/m且覆盖宽度l=1.37mm,并对K9光学玻璃进行了抛光试验.试验结果表明:采用电磁铁励磁的磁流变抛光头可以实现光学元件表面的高精度面型加工.

磁流变抛光、圆孔、磁场强度、Maxwell软件

59

TQ171.6

陕西国防工业职业技术学院校本科研计划项目;陕西职业教育乡村振兴研究院研究课题

2023-03-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

9-12

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

航空精密制造技术

1003-5451

11-2847/V

59

2023,59(1)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn