表面微/纳米计量中的光学测量方法综述
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.11823/j.issn.1674-5795.2023.01.03

表面微/纳米计量中的光学测量方法综述

引用
微纳检测技术旨在以微/纳米级的精度测量加工表面特征,在加工过程的控制、建立表面特征与功能间的联系等方面具有重要作用.光学测量方法具有高精度、快速和无损的特点,是微纳检测技术研发的重要内容.本文介绍了表面形貌和薄膜的光学测量方法,并对各方法的特点及应用场合进行了对比总结.微纳制造技术加工的表面具有结构日益小型化、特征日益复杂化的特点,因此开发多模式测量系统是微纳检测技术的发展趋势.

光学测量方法、表面形貌、薄膜、多模式测量系统

43

TB96(计量学)

国家重点研发计划2017YFF0107001

2023-04-04(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共18页

30-47

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

计测技术

1674-5795

11-5347/TB

43

2023,43(1)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn