10.16080/j.issn1671-833x.2019.09.068
非球面气囊抛光的材料均匀去除研究
对气囊抛光非球面表面材料去除均匀性进行了研究.根据Preston方程,分析了抛光磨头与零件转速比对去除函数分布的影响,并采用定点抛光试验对分析结果进行验证.在定点抛光表面去除速率分析的基础上,通过优化抛光磨头进给速度、合理控制驻留时间,实现材料表面均匀去除.采用该方法,对一口径为150mm的非球面进行抛光试验,抛光后面形误差趋势保持不变,功率谱密度高频分量明显降低,实现了对表面材料的均匀去除.
超精密、光学加工、非球面、均匀去除、气囊抛光
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天津市自然科学基金重点项目17JCZDJC38600
2019-07-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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