放电发射光谱在金属微弧氧化表面处理中的应用研究进展

摘要：

液相火花放电现象是金属微弧氧化表面处理时典型特征,发射光谱(OES)技术是表征微弧放电光谱特征和探索微弧氧化机理的有效手段.本文综述了铝、镁、钛等金属微弧氧化过程中发射光谱的研究现状.介绍微弧放电区等离子体的电子温度、电子密度等特征参数计算原理.重点关注了不同金属基体材料、电参数及电解液组成条件下,等离子体放电行为对微弧氧化膜结构的影响规律,并比较不同放电模型的异同.基于OES谱线评估得到的各种金属微弧等离子体温度为3000～10000?K,为放电通道内快速熔化-凝固过程促进陶瓷膜生长机制提供证据.

关键词：微弧氧化、发射光谱、放电机理、电子温度

所属期刊栏目：41

分类号：TG146(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金项目;国防科技工业核材料技术创新中心

在线出版日期：2021-04-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共13页

页码：32-44