碳纳米管接触电阻的研究进展

摘要：

与金属之间过高的接触电阻是影响碳纳米管在微纳电子器件中应用的关键因素之一，本文从形成机理和改善方法两个方面综述了近年来碳纳米管接触电阻的研究进展。介绍了利用第一性原理对碳纳米管与金属界面电子输运性能的理论研究，以及金属功函数对界面势垒调试作用的实验研究。研究表明金属与碳纳米管之间具有较弱的杂化作用和较长的接触长度时，接触电阻较小；金属与碳纳米管功函数越接近，势垒高度越低。阐述了超声焊接技术、高温退火法、金属沉积法、局部焦耳热法等常用降低碳纳米管接触电阻方法的作用机理，并分析了这些方法对器件性能的改善作用。其中局部焦耳热法操作简单、易于自动化、对器件损害小、成本低，是目前比较理想的降低碳纳米管接触电阻的方法。

关键词：碳纳米管、接触电阻、第一性原理、功函数、降阻方法

所属期刊栏目：36

分类号：TN4(微电子学、集成电路（IC）)

资助基金：国家自然科学基金51172062,51472074;河北省引进海外高层次人才“百人计划”资助项目E2012100005

在线出版日期：2016-11-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：90-96