冷态输送ZrCl4低压化学气相沉积ZrC涂层的制备

摘要：

采用zrCl4-CH4-H2-Ar反应体系,冷态输送ZrCl4粉末化学气相沉积(CVD)制备ZrC涂层.采用热力学计算并结合实验结果分析了冷态输送ZrCl4化学气相沉积ZrC涂层的特点,采用X射线衍射仪和扫描电镜分析了涂层的物相组成、表面形貌和组织结构.结果表明:冷态输送ZrCl4粉末大幅度降低了ZrC的化学气相沉积温度,且容易获得大面积、结构均匀的ZrC涂层.涂层表面由直径在20 ～ 80nm之间的颗粒组成,为无规则“田状”组织.涂层结构主要为柱状晶,沿(200)面优先生长.分析了这种新型“田状”ZrC涂层组织的形成机理以及ZrC涂层的生长机制.

关键词：ZrC涂层、CVD、冷态输送ZrCl4、表面形貌、组织结构、生长机理

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分类号：TB35(工程材料学)

资助基金：国家高技术研究发展计划2007AA03Z110;国家自然科学基金创新研究群体项目50721003;国家重点基础研究发展计划2011CB605805

在线出版日期：2012-03-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：36-42