阴极微弧放电制备TiAl合金表面Al2O3膜的高温氧化性能

摘要：

在Al(NO3)3溶液中利用阴极微弧放电沉积方法,制备了TiAl合金表面的Al2O3膜,膜的厚度为80μm.空气环境下,在900℃下进行高温氧化实验.利用扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)分析了样品在高温氧化前后的形貌和物相变化.100h高温氧化后,Al2O3膜保持完整,与基体有较好的结合.高温氧化前后物相均为γ-Al2O3和少量的α-Al2O3,但是氧化后的膜层中出现了少量的Rutile-TiO2.阴极微弧沉积方法在TiAl合金表面制备的Al2O3膜能够有效地提高基体在900℃时的抗氧化性能.

关键词：阴极微弧沉积、TiAl、高温氧化、Al2O3膜

所属期刊栏目：30

分类号：TG146.2;TG174.45(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金资助项目10575011

在线出版日期：2010-09-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：26-30