10.3969/j.issn.1005-5053.2009.05.001
La0.9 Ba0.1 MnO3-δ薄膜的结构及物性研究
通过射频磁控溅射法在Si(100)基片上沉积了La0.9 Ba0.1MnO3-δ(IJBMO)薄膜,并得到在不同温度下退火后的薄膜.采用X射线衍射(XRD),扫描隧道显微镜(STM),X射线光电子能谱(XPS),四探针法等手段对退火后薄膜的结构、微结构、表面化学态、磁电阻等性质进行了系统研究,结果表明,薄膜在800~850℃温度范围内退火,形成单相结构且晶粒与基片之间存在着相对固定的外延关系.退火温度不同会引起薄膜中含氧量的不同.在温度为300K,磁场为1.5T的条件下,退火温度为850℃的薄膜样品磁电阻可高达30%.
薄膜、退火、磁电阻、XPS谱
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O482.54(固体物理学)
国家自然科学基金资助项目60561001;教育部新世纪优秀人才计划NCET-05-0272;内蒙古自然科学基金资助项目200408020105;内蒙古自治区教育厅资助项目NJ04094
2009-12-04(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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