10.3969/j.issn.1005-5053.2007.01.010
原子氧与真空紫外线协同效应对有机涂层的降解作用
为研究真空紫外与原子氧的协同作用,进行了环氧树脂和有机硅树脂的原子氧/真空紫外交互的地面模拟实验,结果表明:在交互作用中,对有机涂层破坏的主导因素是原子氧,真空紫外线起到协同作用,在切断有机高分子材料化学键的同时,为原子氧提供了反应基,加速了原子氧的反应速率.对比真空紫外辐照和原子氧/真空紫外交互实验结果分析中可以发现,有机硅树脂是较好的耐真空紫外辐射和原子氧侵蚀的有机涂层材料.
真空紫外辐射、原子氧、降解、协同效应
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TB322(工程材料学)
2007-05-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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