磁控溅射法制备五氧化二钒薄膜的表面粗糙度研究

摘要：

V2O5是一种具有热致相变特性的新型非线性光学材料,被广泛应用于激光致盲防护领域.V2O5薄膜的表面粗糙度是影响其性能的重要因素.本文采用磁控溅射镀膜的方法在蓝宝石表面制备V2O5薄膜,通过控制氧氩比以及衬底温度,探究V2O5薄膜表面粗糙度与这两个因素之间的关系.实验表明,衬底温度较低(约300℃)时,表面粗糙度较小,且随氧含量变化不大;衬底温度较高(400℃以上)时,随着氧含量的增加,表面粗糙度变大.同时,当氧分压一定时,随着衬底温度的提高,薄膜的表面粗糙度也增大.

关键词：磁控溅射、氧氩比、衬底温度、V2O5薄膜、表面粗糙度、激光防护技术

分类号：TJ760.5;TN213(火箭、导弹)

资助基金：航空科学基金;创新基地实验室开放基金

在线出版日期：2017-06-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：60-64