10.3969/j.issn.1673-5048.2015.01.010
中波 InAs/GaSb 超晶格红外焦平面探测器
由分子束外延生长的GaSb基的InAs/GaSb超晶格材料具有良好的均匀性,其在制作红外焦平面探测器方面有独特的优势。分别采用生长中断和表面迁移率增强的分子束外延法在GaSb衬底上生长了中波段InAs/GaSb超晶格红外探测器材料,对比表明对于中波超晶格材料,生长中断法优于表面迁移率增强法。利用标准工艺制作了中波红外PIN单元探测器,并制备了320×256的焦平面探测器芯片。
InAs/GaSb超晶格、红外焦平面探测器、分子束外延
TN304(半导体技术)
航空科学基金;国家自然科学基金
2015-04-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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