10.3969/j.issn.1673-5048.2008.02.009
APS等离子体离子辅助沉积薄膜工艺
阐述了APS等离子体离子辅助沉积(PIAD)在光学镀膜中的应用,通过分析APS等离子源辅助沉积过程中离子束的能量传递过程,讨论了各种工艺条件对离子柬辅助沉积薄膜特性的影响,给出了APS等离子源辅助沉积薄膜工艺选择的准则.
离子镀膜、薄膜工艺、等离子源辅助沉积、工艺参数
TN205;TJ760.5(光电子技术、激光技术)
2008-07-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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