10.3321/j.issn:0253-360X.2005.03.014
钴基高温活性钎料钎焊SiC陶瓷的接头组织及性能
采用一种钴基高温活性钎料钎焊SiC陶瓷,研究了钎料厚度、钎焊温度对接头组织,特别是界面反应区组织以及接头室温四点抗弯强度的影响.结果表明,钎料与SiC陶瓷的反应界面可分为富Ni、Co,富Cr及富Ti的三个区域.Ni、Co等元素在陶瓷/钎料界面强烈富集,表现出强的界面活性的特点,Cr元素次之,而Ti元素的活性作用表现并不明显,在距陶瓷/钎料界面一定距离处形成一条富Ti的条带.在1150℃保温10min的钎焊规范下,对应钎料厚度为120μm时获得的接头室温四点抗弯强度最高,平均达到160MPa.
陶瓷、界面反应、活性钎料、四点抗弯强度
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TG425(焊接、金属切割及金属粘接)
中国科学院资助项目59905022
2005-05-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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