10.3321/j.issn:0253-360X.2002.04.021
离子轰击对Be上Al膜的影响
以Be为基体,采用磁控溅射离子镀在其上镀制Al膜,研究了离子轰击对膜基界面和Al膜微结构的影响.研究表明,在薄膜沉积初期,施加高能量离子轰击和采取循环轰击镀能增加界面形成的Be 、Al共混区宽度.不同能量的离子轰击对Al膜微结构有较大影响,不施加离子轰击,Al膜在(111)面择优生长;随着轰击能量升高Al膜在(111)面择优生长趋势减弱,Al膜在(200)面生长趋势加强;当轰击能量超过一定值后,Al膜在(111)面择优生长的趋势又得到加强.晶粒在低能量离子轰击时随轰击能量增加而细化,当较高能量离子轰击引起基体温度升高时,此时晶粒又变大了.
离子轰击、铍、界面过渡层、铝膜、微结构
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TG17(金属学与热处理)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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