10.15985/j.cnki.1001-3865.2021.11.003
石墨相氮化碳纳米片负载胱氨酸醌的合成、表征及其对痕量Cd2+和Pb2+的去除
制备自组装聚合物——石墨相氮化碳(g-C3N4)纳米片负载胱氨酸醌(简写为胱氨酸醌/g-C3N4),采用扫描电子显微镜分析其表面形貌和微观形态,并考察该自组装聚合物对Cd2+和Pb2+的去除效果.结果表明:(1)层叠结构增加了胱氨酸醌/g-C3N4的比表面积,为重金属离子的吸附提供了更多的活性位点.(2)Cd2+和Pb2+的去除率随着胱氨酸醌/g-C3N4中g-C3N4纳米片用量的增加而提升.5 min时,胱氨酸醌/g-C3N4-15(15 mg g-C3N4纳米片负载5 mg胱氨酸醌)对Cd2+和Pb2+的去除率均可达到90%,比胱氨酸醌分别提高了50百分点、24百分点.(3)胱氨酸醌/g-C3 N4对Cd2+和Pb2+可实现同步去除.
胱氨酸醌;石墨相氮化碳纳米片;Cd2+;Pb2+
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国家自然科学基金青年科学基金项目;湖南省自然科学基金资助项目;长沙市杰出青年英才培养计划;中南林业科技大学研究生科技创新基金资助项目
2021-12-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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