印制电路板酸性蚀刻废液的膜电解再生

摘要：

高度精细化线路和高层数印制电路板产量的增加,导致酸性蚀刻废液的排放量越来越大,对环境的负荷也随之增大.介绍了酸性蚀刻废液膜电解再生的基本原理,进行了中试规模的应用研究,并与其他电解再生方法进行技术与经济比较分析.结果表明,在槽电压为5V、电解时间为2h的条件下,酸性蚀刻废液的氧化还原电位由480 mV升至540mV,所得铜粉的纯度大于99％.电解再生能耗约为627 kW·h/t(以废液计),盐酸消耗量为30 L/t(以废液计).膜电解方法再生酸性蚀刻废液是可行的,预计将具有广阔的发展前景.

关键词：印制电路板、酸性蚀刻废液、膜电解、再生、铜粉

所属期刊栏目：33

分类号：TN4;TQ

资助基金：广东省科技计划项目20071B080203003

在线出版日期：2012-01-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：53-56