氩离子辐照下纯镍薄膜的微观结构状态研究

摘要：

为研究离子辐照对金属材料微观结构状态的影响,以透射电子显微镜为分析手段,探讨氩离子辐照对纯镍薄膜辐照缺陷及变形结构的影响规律.研究结果显示:氩离子辐照纯镍薄膜样品可诱发明显的辐照损伤效应;较低辐照剂量下,辐照缺陷团簇以黑点缺陷为主,其中包含大量的层错四面体;辐照剂量较高时,产生孔洞缺陷,其数密度随着辐照剂量而增大,其尺寸呈先上升后下降的趋势.与块体镍材料不同,较高剂量氩离子辐照可在纯镍薄膜中诱发位错扩展和孪生变形,其原因是:材料维度的降低可降低其对称性并抑制位错滑移系统的开动.

关键词：氩离子;纯镍薄膜;微观结构;缺陷团簇;变形孪晶

所属期刊栏目：44

分类号：O484;O485;TL34(固体物理学)

在线出版日期：2021-08-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：37-43