锗基石墨烯能带加工:锰合金化插层

摘要：

在石墨烯或其异质结中引入带隙是石墨烯能带工程研究的重要课题.借助合金化的方法在石墨烯和锗[Ge(110)]衬底之间成功插入二维Mn-Ge合金岛,并对此异质结构开展微观原子结构及低能电子激发的扫描隧道显微学研究.在不同石墨烯覆盖度的样品中,发现了一维纳米线和二维平板合金岛插层,在缺乏石墨烯保护的合金表面,二维合金岛可以恢复三维生长.Mn-Ge合金纳米线和二维岛插层使石墨烯分别打开了400 meV和200 meV的能隙,为改变石墨烯的能带结构提供了可行的方法.

关键词：石墨烯、扫描隧道显微镜、插层、能带工程

所属期刊栏目：42

分类号：TN304.9(半导体技术)

资助基金：上海市自然科学基金No.18ZR1447300 Supported by the Natural Science Foundation of Shanghai 18ZR1447300

在线出版日期：2019-09-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：56-61