多阴极金属等离子体源的特性及应用研究
设计了一种新型的多阴极金属等离子体源,对离子流分布均匀性、导管偏压和约束磁场电流进行了测试和优化.采用该装置制备了TiAlSiN多元复合薄膜,利用EDX、XRD、XPS和纳米探针对薄膜的组成、微结构和力学性能进行测试分析.结果表明,该装置可成功地制备复合薄膜,合成的薄膜具有n-TiAlN/a-Si3N4复合结构,具有高的硬度(≥35 GPa).
多阴极等离子体源、均匀性、复合薄膜、硬度
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O539;O484.5(等离子体物理学)
国家自然科学基金10875033
2015-06-17(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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