C注入GaN光致发光和微区拉曼散射的研究
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

C注入GaN光致发光和微区拉曼散射的研究

引用
使用光致发光谱和微区拉曼散射谱的测量,研究了C离子注入原生无黄光发射的GaN.C离子的注入剂量范围为10~(13)-10~(17) cm~(-2).发光谱的研究表明,C注入的GaN经950℃高温退火后出现了黄光发射,而近带边发射峰的峰位则由于C注入产生的某种缺陷而发生了蓝移.拉曼谱的测量表明,GaN薄膜的应力不随C注入而改变.当注入剂量增加至10~(15) Cm~(-2)时,出现了与无序激活拉曼散射相关的300 cm~(-1)峰,但随着注入剂量进一步增加,300 cm~(-1)峰减弱并未消失,这被归因于注入束流强度随注入剂量增大.

GaN、离子注入、光致发光谱、微区拉曼散射谱

33

O427~+.3(声学)

国家自然科学基金10605011

2010-03-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

15-19

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

核技术

0253-3219

31-1342/TL

33

2010,33(1)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn