离子束辅助沉积制备TiN/Si3N4纳米超硬膜的工艺研究

摘要：

采用离子束辅助沉积法(Ion beam assisted deposition,IBAD)在单晶硅片上进行沉积制备了TiN/Si3N4纳米复合超硬薄膜;研究了辅助束流、轰击能量和Ti:Si靶面积比等工艺参数对TiN/Si3N4超硬纳米复合薄膜性能的影响.此外采用纳米硬度计、光电子能谱(X-ray photoelectron spectrum,XPS)和x射线衍射分析(X-raydiffraction,XRD)方法研究了纳米复合薄膜的性能、成分与组织结构;采用原子力显微镜(Atomic forcemicroscopy,AFM)分析了薄膜的表面形貌,并初步探讨了TiN/Si3N4纳米复合超硬薄膜的生长机理.

关键词：离子束辅助沉积、超硬纳米复合物、TiN/Si3N4薄膜

所属期刊栏目：29

分类号：O6(化学)

资助基金：国防重点实验室基金

在线出版日期：2006-03-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：120-124