10.3321/j.issn:0253-3219.2004.10.017
真空高温氢化法制备Pd-Zr复合膜
为了获得低成本、高渗氢率、长寿命、高强度的选择渗氢膜,耐熔金属锆(Zr)被选作复合膜的基体.在真空4.0×10-4Pa、温度650℃的反应条件下,锆表面氧化膜松动、分解,氧化膜被去除;再在氢气氛中使其洁净表面上生成一层氢化锆保护膜;在真空度为6.6×10-6Pa下,采用离子溅射镀膜法,在锆片(φ50 mm×0.23 mm)的双表面上分别镀上了一层厚约400nm的钯(Pd)薄膜,钯膜均匀、细腻、光洁,膜厚易控制;再经过退火处理,制得了Pd-Zr复合膜,膜面致密,钯膜与基体锆结合力强,内应力消失.采用X射线衍射(XRD)和X光电子能谱(XPS)对锆表面及复合膜表面进行了分析.制备的Pd-Zr选择渗氢复合膜对核燃料和聚变燃料的纯化及反应堆增殖剂中氚的提取将具有很大的应用前景.
氢气纯化、复合膜、高温真空、氢化
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TG146.41;TQ028.21(金属学与热处理)
中国工程物理研究院核物理与化学研究所项目
2005-01-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
796-800