10.3321/j.issn:0253-3219.2004.08.006
注F+NMOSFET的电离辐照与退火特性
比较了CC4007电路栅介质中注F'和未注F'的NMOS晶体管在不同偏置辐照和不同环境退火的行为,结果表明,栅介质中F'的引入能明显降低器件的辐照敏感性,提高器件的可靠性能.表现为在同样辐照偏置下注F'器件比未注F'器件的阈电压漂移小,辐照后退火期间的界面态、氧化物电荷变化稳定.
辐照、注F’、NMOS、阈电压、退火、可靠性
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TN304(半导体技术)
2004-09-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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