Mo/Si/C多层膜退火后的同步辐射研究

摘要：

通过对Mo/Si周期多层膜添加碳(C)层、进行高温退火处理,研究了Mo/Si/C多层膜进行热处理后在同步辐照条件下对薄膜相关物理特性的影响.发现Mo/Si周期性多层膜增加C层后不影响薄膜的反射特性,退火前45°入射角92 eV处反射率高达42%;热稳定性也有所提高,在600℃高温退火后仍能保持6.8%(97eV处)的反射率.同时,由于非晶C在高温条件下的扩散导致薄膜结构发生变化,观测到薄膜的小角衍射曲线中出现并临的双衍射峰结构.

关键词：周期多层膜、退火、小角衍射、同步辐射、软X光、偏振

所属期刊栏目：27

分类号：O43(光学)

资助基金：国家自然科学基金10275078;上海市科学发展基金022261049

在线出版日期：2004-08-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：489-493