10.3321/j.issn:0253-3219.2002.10.002
横向外延GaN结晶质量的同步辐射研究
采用同步辐射X光衍射技术研究了α-Al2O3(0001)衬底上横向外延GaN的结构特征.发现横向生长区的GaN(0001)晶面与窗口区的GaN(0001)晶面在垂直掩模方向上存在取向差.ω/2θ联动扫描发现横向生长区的GaN的衍射峰半高宽约为窗口区GaN的一半,这表明横向外延生长技术在降低GaN穿透位错密度的同时,还能大幅度提高GaN的晶粒尺寸.
GaN、横向外延生长、晶面倾斜、晶粒度、同步辐射X光衍射
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O722+.2;O723;TN304.7(X射线晶体学)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
770-774