GaP高能重离子辐照损伤及退火的正电子湮没研究
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3321/j.issn:0253-3219.2000.06.002

GaP高能重离子辐照损伤及退火的正电子湮没研究

引用
用正电子湮没寿命技术研究了2.4×1015/cm2和2.2×1016/cm2 85MeV 19F离子辐照GaP的辐照损伤及其退火效应。结果表明,高低两种注量辐照在GaP中产生浓度较高的单空位。在300×1023K温度范围内测量了正电子湮没寿命随退火温度的变化。低注量辐照样品在退火过程中有双空位的形成;而高注量辐照样品中观察到比双空位更复杂的缺陷形式,其完全被退火的温度比低剂量辐照的高250K。

GaP、19F离子、辐照损伤、退火效应、正电子湮没

23

O472(半导体物理学)

国家自然科学基金19835050;国家预研基金97J11.2.8HZ010

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

359-362

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

核技术

0253-3219

31-1342/TL

23

2000,23(6)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn