Long range implantation by MEVVA metal ion source
diffusion coefficient、ion implantation、new technology、high ion flux
12
O472;O483;TN305.3(半导体物理学)
国家自然科学基金59671051 and59871003;国家高技术研究发展计划863计划863-715-023-02-01
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
16-20