铬胁迫下再力花的生长、铬积累及亚细胞分布

摘要：

在小型模拟湿地系统开展盆栽实验,研究Cr(Ⅵ)胁迫对再力花(Thalia dealbata)的生长、各器官中Cr含量、积累量及其亚细胞分布的影响.结果表明,Cr胁迫下各器官生物量表现为:根＞茎＞叶,且在铬处理浓度为40 mg/L时各种生长指标(包括株高、根长、生物量)均达到最大.随着Cr胁迫浓度的增加,再力花根、茎、叶中Cr含量显著增加.在相同Cr浓度处理时,Cr含量和积累量总趋势为:根＞茎＞叶.再力花根、叶中Cr大部分存在于细胞壁、胞液中,少量分布在细胞器中,分布趋势为细胞壁＞胞液＞细胞器.然而,茎中Cr大部分存在于细胞器中(51.97％～61.19％),在细胞壁和胞液中较少.再力花对铬的耐性指数和滞留率随着Cr处理浓度的增加而显著上升,且Cr转运系数较低,根部对Cr的固持能力较强,而且地上部分(叶、茎)对铬的富集系数较高(最大值为3.05).综上,再力花具有较强的铬积累力与耐受力,在修复水体重金属铬污染中具有潜在的应用价值.

关键词：铬(Ⅵ)、再力花、积累、转运系数、亚细胞分布

所属期刊栏目：37

分类号：X173(环境生物学)

在线出版日期：2014-08-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：30-35,123