O3/UV降解含氮杂环化合物喹啉
本研究采用O3/UV工艺降解喹啉溶液,系统地探讨了喹啉初始浓度、反应后置时间、初始pH、HCO;浓度等因素对降解过程的影响.通过测定降解过程中的中间产物,分析了喹啉的降解机制及途径.结果表明随着喹啉初始浓度增加,反应表观速率常数和去除率都降低;pH(7~9)碱性条件时降解效果最好;HCO3-的存在明显降低了喹啉的去除率,加入100 mg·L-1rHCO;喹啉去除率降低了42.01%;反应后置时间对喹啉的去除率及矿化率基本没有影响.喹啉的降解中间产物主要为8-羟基喹啉、5-羟基喹啉、2(1H)-喹啉酮、2-吡啶甲醛等,喹啉在O3/UV体系中的降解途径主要由羟基自由基(·OH)、O3氧化剂发生的加成反应、取代反应、亲电反应等.
喹啉、含氮杂环化合物、O3/UV、气相色谱-质谱联用、羟基自由基、降解途径
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X703.1(一般性问题)
北京市自然科学基金与北京市科学技术研究院联合资助项目L140011;国家水体污染控制与治理科技重大专项2014ZX07211001
2016-12-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
3884-3890