10.3321/j.issn:0250-3301.2007.04.014
全氟羧酸在185 nm真空紫外光下的降解研究
以全氟辛酸为代表的全氟羧酸是一类新的持久性有机污染物,广泛地存在于各种环境介质.研究了全氟辛酸、全氟庚酸、全氟己酸、全氟戊酸和全氟丁酸等5种全氟羧酸在185 nm真空紫外光下的光降解行为,以发展1种有效降解全氟羧酸的方法.结果表明,全氟羧酸在185 nm紫外光照下发生显著地降解并生成氟离子,而在254 nm紫外光照下降解不明显.反应6h后,全氟丁酸降解率达到60%以上;而其它4种全氟羧酸的降解率达到90%以上,脱氟率在21%~71%之间,表现出随碳链增长而降低的趋势.氮气、空气、氧气等3种反应气氛对全氟羧酸在185 nm紫外光下的降解与脱氟没有显著影响.LC/MS分析表明,全氟辛酸光降解时逐级生成短链的全氟庚酸、全氟己酸、全氟戊酸和全氟丁酸.全氟羧酸在185 nm光照下首先发生脱羧反应,脱羧后的自由基与水反应生成少1个碳原子的全氟羧酸和氟离子.
全氟羧酸、全氟辛酸、光解、脱氟、真空紫外光、持久性有机物
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X592
国家自然科学基金20577026;中国博士后科学基金023207006
2007-05-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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