石墨烯-单壁碳纳米管修饰分子印迹传感器测定黑茶中槲皮素
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10.7524/j.issn.0254-6108.2016.06.2015111604

石墨烯-单壁碳纳米管修饰分子印迹传感器测定黑茶中槲皮素

引用
本文以石墨烯(GR)和单壁碳纳米管(SWNTs)为修饰剂,研究其对金电极的增敏效果.并以邻氨基酚为功能单体,槲皮素为模板分子,于金电极表面通过电聚合制备对槲皮素具有特定选择性的分子印迹膜(MIP).采用循环伏安法(CV)和差分脉冲伏安法(DPV)研究了分子印迹膜的形成过程、结构、印迹效果和电化学性能.并用与槲皮素结构相似的化合物芦丁进行干扰实验,结果表明,该印迹膜对槲皮素有较好的选择性.优化了测定槲皮素的条件,绘制了槲皮素的工作曲线,该传感器对槲皮素浓度的线性响应范围3.00×10-7-1.92× 10-5 mol·L-1,线性方程为:I(μA)=-11.8505 +2.68931gc(mol· L-1),(R=0.9935),检出限为1.OO×10-7 mol· L-1.5次重复测定结果的相对标准偏差为6.8%,放置10d后,响应值为最初的92.5%,该传感器具有良好的重复性和稳定性.对黑茶样品中的槲皮素含量进行了测定,回收率在97.8%-104.0%之间,结果较为满意.

分子印迹膜、金电极、石墨烯、单壁碳纳米管、槲皮素

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湖南省教育厅高校科研一般项目15C0244,国家自然科学基金21545003,湖南省自然科学基金2015JJ2023,湖南省高校科技创新团队支持计划2014-207号资助.Supported by the Scientific Research Fund of Hunan Provincial Education Department15C0244,the National Natural Science Foundation of China21545003,the Natural Science Foundation of Hunan Province 2015JJ2023,the Program for Science and Technology Innovative Research Team in Higher Educational Institutions of Hunan Province2014-207.

2016-08-25(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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