氢气稀释比例对多晶硅薄膜微观结构和沉积特性的影响

摘要：

利用电感耦合等离子体增强化学气相沉积法(ICP-PECVD)直接在普通玻璃衬底上低温沉积多晶硅薄膜，主要研究了不同氢气稀释比例对薄膜沉积特性和微观结构的影响。采用X射线衍射仪(XRD)、拉曼光谱仪和扫描电子显微镜(SEM)表征了在不同氢气比例条件下所制备多晶硅薄膜的微结构、形貌，并对不同条件下样品的沉积速率进行了分析。实验结果表明：随着混合气体中硅烷比例的增加，薄膜的沉积速率不断增加；晶化率先增加，后减小；当硅烷含量为4.8%时，晶化率达到最大值67.3%。XRD和SEM结果显示多晶硅薄膜在普通玻璃衬底上呈柱状生长，且晶粒排列整齐、致密，这种结构可提高载流子的纵向迁移率，有利于制备高效多晶硅薄膜太阳能电池。

关键词：电感耦合等离子体、等离子体增强化学气相沉积、多晶硅薄膜、氢气比例

分类号：O539(等离子体物理学)

在线出版日期：2014-10-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：275-281