10.3969/j.issn.0254-6086.2007.03.019
射频对非平衡磁控溅射沉积Cu膜的影响
用射频等离子体增强非平衡磁控溅射在Si100基底上沉积了金属Cu膜.研究了偏压,射频功率和磁场等沉积参数对膜性能的影响.用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)和电子能谱(EM)检测了膜的表面形貌,结构和成分.结果表明,射频放电有利于表面均匀光滑、电导率高的Cu沉积膜的形成;沉积参数对沉积膜的性能有重要的影响.
射频、非平衡磁控溅射、Cu膜
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TB383(工程材料学)
国家自然科学基金50277003;10505005
2008-04-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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