射频对非平衡磁控溅射沉积Cu膜的影响

摘要：

用射频等离子体增强非平衡磁控溅射在Si100基底上沉积了金属Cu膜.研究了偏压,射频功率和磁场等沉积参数对膜性能的影响.用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)和电子能谱(EM)检测了膜的表面形貌,结构和成分.结果表明,射频放电有利于表面均匀光滑、电导率高的Cu沉积膜的形成;沉积参数对沉积膜的性能有重要的影响.

关键词：射频、非平衡磁控溅射、Cu膜

所属期刊栏目：27

分类号：TB383(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金50277003;10505005

在线出版日期：2008-04-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：264-268