非平衡磁控溅射系统的离子束流控制

摘要：

在非平衡磁控溅射沉积非磁性金属薄膜过程中,离子/原子到达比、沉积速率等参数是影响薄膜结构和性能的重要因素.根据非平衡磁控溅射沉积过程中离子的分布特点,分别考虑离子和中性粒子的传输,导出了对圆形平面靶非平衡磁控溅射沉积薄膜的放电功率、气压和离子束流密度等参数之间的关系,阐明了放电参数对于沉积过程离子束流密度等参数的影响.在Ar放电条件下,测量了系统的伏安特性;采用偏压平面离子收集电极测量了溅射系统轴向离子束流密度随不同的气压、溅射电流和空间位置的变化规律.结果表明模型分析的结论和实验数据的变化趋势相符合.

关键词：等离子体、金属薄膜/非磁性、磁控溅射

所属期刊栏目：24

分类号：TL65+6;TB43(受控热核反应（聚变反应理论及实验装置）)

在线出版日期：2004-10-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：225-230