高压氘氚气氛下铜对氚的吸附

摘要：

为了解氚在铜表面的吸附和解吸行为,对铜样品在n(D)∶n(T)=1∶1,503 K时,15 MPa下恒温8 h后,再在27 MPa恒温6 h下进行了氚的吸附,并对吸附氚的铜样品在室温下和加热到1 173 K时的解吸氚量和吸附总氚量进行了测量.结果表明,铜的吸附总氚量为31.89 MBq/cm2,解吸氚量为29.18 MBq/cm2,测量的标准差为6.49%;室温和加热条件下铜所释放的氚中,化学成分主要是HTO和HT,大部分以HT形式存在;铜的自由氚量占吸附总氚量的3.64 %;铜的热解吸谱至少存在3个解吸峰,其解吸温度分别为650,750和1 173 K以上.

关键词：氚、铜、吸附、高压

所属期刊栏目：29

分类号：O647.32(物理化学（理论化学）、化学物理学)

在线出版日期：2007-05-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：40-43