Tb3+∶KY(WO4)2薄膜的制备及其荧光性能的研究

摘要：

采用浸渍提拉法以SiO2为缓冲层在石英基片上制备Tb3+∶KY(WO4)2薄膜.通过X射线衍射、扫描电镜、原子力显微镜和荧光光谱进行表征.结果表明:加入缓冲层薄膜具有垂直于c轴的择优取向,石英基片与薄膜之间的晶格失配为9.7％,薄膜的结晶度为87.9％,厚度在10～15nm之间,表面粗糙度Ra=13.346nm.激发光谱和发射光谱显示,254nm激发光可发射545 nm的绿光,545nm处的荧光寿命是0.69ms.

关键词：薄膜、Tb3+∶KY(WO4)2、缓冲层、荧光性能

所属期刊栏目：50

分类号：V254.2(航空用材料)

资助基金：国家自然科学基金;江苏大学启动资金

在线出版日期：2022-08-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：91-94