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10.19817/j.cnki.issn1006-3536.2022.04.026

磁控溅射制备Ni亚微米管阵列及微结构研究

引用
以阳极氧化铝(AAO)为模板,利用磁控溅射法制备了Ni亚微米管阵列.通过X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(SEM)等手段对沉积态以及经过400℃退火保温不同时间制备的Ni亚微米管阵列的物相结构及微观形貌进行了表征.结果表明:磁控溅射法制备的Ni亚微米管阵列具有多晶的面心立方结构.随着退火时间的增加,Ni亚微米管逐渐增多,Ni衍射峰强度逐渐降低.经400℃退火3h后,获得结构完整、高度有序的Ni亚微米管阵列,Ni亚微米管的大小均匀,外径约为400nm,内径约为200nm,长度约为500nm.

阳极氧化铝模板、磁控溅射、Ni亚微米管阵列、物相结构、微观形貌

50

TB383(工程材料学)

乐山市科技局重点研究项目;乐山师范学院科研项目

2022-05-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

128-131

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1006-3536

11-2357/TQ

50

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