等离子体刻蚀辅助绝缘衬底上生长石墨烯研究

摘要：

石墨烯由于其优异的物理和化学性质,在材料和纳米器件等领域受到了极大的关注.但通过转移法转移的石墨烯在石墨烯基纳米器件上会引入杂质和缺陷,因此,直接在氧化硅上生长高质量的石墨烯成了一项迫切的需求.基于传统的热壁化学气相沉积(CVD)系统,设计了一种新的绝缘衬底生长系统,通过附加微波等离子体单元来提供额外的蚀刻和辅助效果,成为微波等离子体蚀刻和辅助CVD(MPEE-CVD).利用此系统,成功地实现了在氧化硅和其他绝缘衬底上直接生成可控尺寸的石墨烯薄膜,并通过拉曼光谱和扫描电子显微镜表征了晶体质量.该项工作为进一步改善基于石墨烯的场效应晶体管纳米器件的性能开辟了新的道路.同时,它为在绝缘衬底上直接生长其他二维材料提供了可能的指引.

关键词：石墨烯、等离子体刻蚀辅助化学气相沉积、绝缘衬底

所属期刊栏目：48

分类号：TN305.7;TN405.982;O484

资助基金：福建省自然科学基金;福建省中青年教师教育科研项目

在线出版日期：2020-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：100-103