磁控溅射参数对Al薄膜微观结构及红外特性的影响研究

摘要：

利用磁控溅射法在Si(100)基片上制备了Al薄膜,采用X射线衍射、扫描电镜、扫描探针显微镜和红外光谱仪研究了基片温度、溅射功率和溅射时间对Al薄膜表面、断面形貌和红外反射率的影响.结果表明:随着基片温度的升高,Al颗粒的尺寸变大,由均匀细颗粒变为不规则形状,并逐渐熔为一个整体,断面形貌变得凹凸不平,表面粗糙度增大,红外反射率呈下降的趋势;随着溅射功率的增大,Al薄膜致密平整,表面粗糙度增大,红外反射率先增大后不变;随着溅射时间的延长,Al薄膜表面粗糙度增大,红外反射率先增大后不变.

关键词：磁控溅射、Al薄膜、微观结构、红外特性

所属期刊栏目：45

分类号：TB383;O484;TG174.442

资助基金：国家自然科学基金51502344

在线出版日期：2018-03-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：172-175,179