磁控溅射Al掺杂ZnO薄膜结构及光电性能研究

摘要：

采用磁控溅射法在石英玻璃衬底上制备不同铝(Al)掺杂量的铝掺氧化锌(AZO)薄膜.利用X射线衍射仪、原子力显微镜、四探针测试仪和透射光谱仪等手段研究了不同Al掺杂量对AZO薄膜结构、形貌、电学和光学性能的影响.结果表明,所有样品均为ZnO六方纤锌矿晶体结构,具有较好的c轴择优取向;随着Al掺杂量的增加,薄膜结晶稍有变差,电阻率逐渐降低,透过率逐渐增加.当Al掺含量为3％(vol,体积分数)时,AZO薄膜的综合性能更好,电阻率约3.52×10-3 Ω·cm,平均透光率可达到80％,光学禁带宽度达到3.23eV.

关键词：AZO薄膜、磁控溅射、Al掺杂含量、电阻率、透光度

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分类号：TN304.055;TM914.4;O646

资助基金：教育部人文社会科学研究项目;辽宁省自然科学基金;辽宁省高校优秀人才计划;辽宁省高等学校创新团队

在线出版日期：2017-09-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：131-133