纳米氮化硅的表面修饰及分散稳定性研究

摘要：

用γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(KH-570)对纳米氮化硅(Si3N4)粒子进行表面修饰,采用开炼混合和硫化工艺制得Si3N4/丁苯橡胶(SBR)纳米复合体系,通过红外光谱(FT-IR)、接触角仪、透射电镜(TEM)和橡胶加工分析仪(RPA)对改性前后纳米Si3N4粒子及纳米Si3N4/SBR复合体系在有机体系中的分散稳定性和力学性能进行分析.结果表明:KH-570分子链成功接枝在纳米Si3N4表面并急剧降低了纳米粒子的表面能,有效阻止纳米颗粒团聚,提高了纳米粒子在有机体系中的分散稳定性,改善了纳米复合材料的界面粘结,增强了复合材料的力学性能.制得的改性纳米Si3N4/SBR表面能为35.521J/m2,比未改性纳米Si3N4的表面憎水性提高了3倍以上,储能模量达到600kPa,有效提高了纳米Si3N4/SBR复合材料的性能.

关键词：Si3N4、硅烷偶联剂、表面改性、分散稳定性

所属期刊栏目：45

分类号：TQ325.2;TQ630.4;TQ50.4

资助基金：国家自然科学基金51273001

在线出版日期：2017-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：67-69