钴离子表面印迹聚合物的制备及其吸附性能研究

摘要：

以钴离子为模板离子,硅胶为基底,(3-巯基丙基)三甲氧基硅烷为功能单体,环氧氯丙烷为交联剂,采用表面印迹技术制备并表征了钴离子印迹聚合物[Co(Ⅱ)-ⅡP],研究了其对钴离子的吸附性能.结果表明,在25℃、pH=5～6时平衡吸附时间为1h,最大吸附量为20.05mg/g.Co(Ⅱ)-ⅡP对Co(Ⅱ)/Cd(Ⅱ)、Co(Ⅱ)/Pb(Ⅱ)、Co(Ⅱ)/Cu(Ⅱ)、Co(Ⅱ)/Ni(Ⅱ)吸附选择性系数分别为2.52、1.34、3.61、4.39.经5次吸附-解吸循环后,Co(Ⅱ)-ⅡP对钴离子的吸附效果并没有明显下降,表明该材料具有一定的循环利用性能.

关键词：离子印迹聚合物、表面印迹技术、钴离子、吸附性能

所属期刊栏目：44

分类号：O647.33;X703.1;X131.2

资助基金：国家自然科学基金21266027

在线出版日期：2017-01-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：44-47